K-Othrine® Partix™, nueva formulación de Bayer para tratar superficies porosas

K-Othrine® Partix™, nueva formulación de Bayer para tratar superficies porosas

control plagas

K-Othrine® Partix™ es el primer producto registrado con la nueva tecnología de formulación Partix™, que ofrece a los controladores de plagas el poder de controlar un amplio espectro de plagas, incluidas chinches y arañas, en cualquier superficie y con un excelente rendimiento incluso en superficies porosas.

 

K-Othrine® Partix™  de Bayer es el primer producto registrado con la revolucionaria tecnología Partix™, que ofrece a los controladores de plagas el poder de controlar un amplio espectro de plagas en cualquier superficie:

  • Excelente rendimiento incluso en superficies porosas.
  • Distribución uniforme y mayor biodisponibilidad del ingrediente activo hasta 12 semanas.
  • Potente en un amplio espectro de plagas, incluidas chinches y arañas.
  • Reducción significativa de los niveles del ingrediente activo en el medio ambiente.

Las superficies porosas ya no son una excusa

Las superficies porosas están en todas partes y representan un desafío complejo para los controladores de plagas.

Estas superficies no son realmente lisas y las formulaciones actuales no logran buenos resultados en ellas, debido a la absorción y pérdida del ingrediente activo en las grietas de la superficie. Gracias a la nueva tecnología de formulación PartixTM, el ingrediente activo se incorpora en partículas 10 veces más grandes para evitar la absorción y permanecer encima de la superficie.

 



Rendimiento aún mayor

Las partículas que contienen el ingrediente activo son sólidas y tienen formas irregulares, para permanecer distribuidas de forma uniforme sobre la superficie hasta 12 semanas, lo que significa:

  • Mayor cantidad de ingrediente activo para que los insectos entren en contacto.
  • Menor necesidad de repetición del tratamiento y por tanto menos visitas de seguimiento.
  • Resultados excelentes y consistentes en cualquier superficie con cada aplicación.

K-Othrine PartixTM se reparte de forma uniforme sobre las superficies.



Potente en una amplia variedad de plagas

La deltametrina es el ingrediente activo de confianza de K-Othrine® PartixTM, conocido por su alta eficacia en un amplio espectro de insectos.

Ideal para rotación en chinches

Cuatro razones para añadir K-Othrine® PartixTM a su gama de soluciones para chinches:

  • Debido a la avanzada tecnología PartixTM, ofrece una rápida mortandad.
  • La etiqueta permite la aplicación en colchones.
  • Excelente rendimiento y estabilidad a altas temperaturas.
  • No mancha ni causa olores desagradables en un tratamiento discreto.

 

El nuevo envase Nashville

Ayuda a reducir el impacto medioambiental al reducir el contenido de plástico y embalaje.


 

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